Осаждение в соответствии с наношаблоном (nanotemplatedgrowth) — процесс формирования объекта заданной формы, в т.ч. с замкнутым внутренним пространством, путем осаждения исходных наноструктурированных материалов или наночастиц из жидкой или газовой фазы на подложку.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013. Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение веществ модулированное (modulated elemental reacted method) — процесс формирования чередующихся слоев двух или более веществ путем последовательного осаждения из газовой фазы каждого из исходных веществ на заданных участках подложки.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение методом химического восстановления (electrolessdeposition) — процесс получения покрытия путем осаждения ионов материала на поверхности электрода в специальном растворе в результате реакции электрохимического восстановления.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013. Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение многослойное (multilayer deposition) — процесс получения композиционных материалов со слоистой структурой путем последовательного осаждения на подложку двух или более исходных материалов.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нано технологии. Часть 8. Процессы нано технологического производства. Термины и определения]

Осаждение нано частиц из раствора (nanopartic leprecipitation) — процесс получения наночастиц в результате протекания химических реакций в растворе с возможностью влияния на размеры получаемых частиц за счет кинетических факторов.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение нановолокон (nanofibre precipitation) — процесс получения покрытия или структуры объекта осаждением нано волокон из раствора на подложку или ее заданные участки.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение напылением (sputterdeposition) — физическое осаждение из газовой фазы с применением источника высокоэнергичных частиц, бомбардирующих исходный материал (мишень), для перемещения атомов исходного материала на поверхность подложки.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение полиэлектролитов электростатическое, послойное (polyelectrolytelayer-by-layer) — процесс получения покрытия путем последовательного нанесения на поверхность подложки слоев полиэлектролитов с противоположными знаками электрических зарядов.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013. Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение послойное, электростатическое (layer-by-layer deposition) — процесс последовательного нанесения на поверхность подложки слоев полимерных материалов с противоположными знаками электрических зарядов.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение распылением (Spraydeposition) — процесс получения покрытия из исходного жидкого материала, преобразованного соплом в аэрозоль и нанесенного на поверхность подложки.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013. Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]