Научные конференции
ISSN: 2587-9413 терминов, определений и пояснений строительных материалов

Сайт премиии им. Гришманова И.А.  Вестник науки и образования Северо-Запада России  Конкурс имени Ивана Федорова

Основные строительные материалы
Сопутствующие теме термины и определения
Последнее обновление энциклопедии: 09.07.2026 - 16:50

Нанотехнологии/Nanotechnologies

Осаждение физическое из газовой фазы

Осаждение физическое из газовой фазы; ФОГФ (physical vapour deposition; PVD) — процесс нанесения покрытия испарением исходного материала с последующей его конденсацией на подложке в условиях вакуума.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013. Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение фокусированным ионным пучком

Осаждение фокусированным ионным пучком; ОФИП (focusedion-beamdeposition; FIB) — химическое осаждение из газовой фазы с применением фокусированного потока ионов для осаждения молекул исходного газообразного материала на заданных участках поверхности подложки.

Примечание. ОФИП применяют, например, для осаждения газообразного карбонила вольфрама W(CO). В вакуумной камере под воздействием ионного пучка газообразный карбонил вольфрама разлагают на летучие и нелетучие компоненты; нелетучий компонент, вольфрам, в результате химической адсорбции оседает на подложку. ОФИП применяют также для осаждения других металлических материалов, например платины. Осажденный таким способом металлический материал можно использовать в качестве временного слоя для защиты объекта от разрушающего воздействия ионного пучка.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение фокусированным электронным пучком

Осаждение фокусированным электронным пучком; ОФЭП (focusedelectron-beamdeposition) — химическое осаждение из газовой фазы с применением фокусированного (концентрированного) потока электронов для осаждения молекул исходного газообразного материала на заданных участках поверхности подложки.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение химическое из газовой фазы

Осаждение химическое из газовой фазы (chemicalvapourdeposition) — процесс получения пленок или порошков в результате термических реакций разложения и/или взаимодействия одного или нескольких исходных газообразных веществ на подложке.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013. Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение химическое каталитическое из газовой фазы

Осаждение химическое каталитическое из газовой фазы; КХОГФ (catalytic chemical vapour deposition; CCVD) — процесс ХОГВ, основанный на термическом разложении газообразных веществ с применением катализатора.

Примечания.

  1. Процесс КХОГФ применяют для получения углеродных нанотрубок из исходных углеводородных материалов (например, метан) с использованием катализаторов, например, железо Fe, никель Ni или кобальт Co.
  2. Термин «каталитическое химическое осаждение из газовой фазы» относят к терминам, обозначающим процессы катализа.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение центробежное

Осаждение центробежное (spincoating) — процесс получения пленки осаждением из жидкого исходного материала твердой дисперсный* фазы на вращающуюся подложку под действием центробежных сил.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Осаждение электроискровое

Осаждение электроискровое (electro-spark deposition) — процесс получения покрытий импульсно-дуговой микросваркой, основанный на изменении физико-химических свойств поверхности под воздействием импульсных искровых разрядов, сопровождаемых отделением от обрабатывающего электрода вещества и переходом его на обрабатываемую поверхность (катод).

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Пиролиз аэрозоля

Пиролиз аэрозоля (pyrogenesis) — процесс получения твердого агрегированного материала, в т.ч. наноматериала, осаждаемого на подложку в результате сжигания или нагревания до заданной температуры распыляемого исходного материала в виде аэрозоля.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Полимеризация интеркаляционная

Полимеризация интеркаляционная in-situin (situ Intercalative polymerization) — процесс получения нанокомпозита, основанный на введении мономера в исходный слоистый неорганический материал и последующей его полимеризации.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Полимеризация на поверхности

Полимеризация на поверхности (surface polymerization) — процесс получения полимерной пленки на поверхности подложки из газовой или жидкой фазы исходного мономера.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]