Научные конференции
ISSN: 2587-9413 терминов, определений и пояснений строительных материалов

Сайт премиии им. Гришманова И.А.  Вестник науки и образования Северо-Запада России  Конкурс имени Ивана Федорова

Основные строительные материалы
Сопутствующие теме термины и определения
Последнее обновление энциклопедии: 09.07.2026 - 16:50

ГОСТ Р система сертификации продукции в Российской Федерации

Проникновение неустойчивое

Проникновение неустойчивое (permeation transient) — поток проникновения водорода, изменяющийся со временем (от начала наводороживания до достижения устойчивого состояния) или при изменении условий наводороживания.

[ГОСТ Р 9.915-2010. Единая система защиты от коррозии и старения (ЕСЗКС). Металлы, сплавы, покрытия, изделия. Методы испытаний на водородное охрупчивание.]

Агент наводороживающий

Агент наводороживающий (recombination poison) — химический реактив, вводимый в испытательную среду камеры наводороживания для усиления поглощения водорода металлической поверхностью испытуемого образца.

[ГОСТ Р 9.915-2010. Единая система защиты от коррозии и старения (ЕСЗКС). Металлы, сплавы, покрытия, изделия. Методы испытаний на водородное охрупчивание.]

Классификация эмульсии по устойчивости

Классификация эмульсии по устойчивости:

1 — быстрораспадающиеся (анионные: ЭБА-1, ЭБПА-1; катионные: ЭБК-1 и ЭБПК-1);

2 — среднераспадающиеся (анионные: ЭБА-2, ЭБПА-2; катионные: ЭБК-2 и ЭБПК-2);

3 — медленнораспадающиеся (анионные: ЭБА-3, ЭБПА-3; катионные: ЭБК-3 и ЭБПК-3).

[ГОСТ Р 52128-2003. Эмульсии битумные дорожные. Технические условия]

Классификация эмульсии по химической природе ПАВ

Классификация эмульсии по химической природе  ПАВ:

анионные — ЭБА, ЭБПА;

катионные — ЭБК, ЭБПК.

[ГОСТ Р 52128-2003. Эмульсии битумные дорожные. Технические условия]

Травление фокусированным ионным пучком

Травление фокусированным ионным пучком; ТФИП (focused ion-beametching; FIB — процесс управляемого удаления поверхностного слоя материала с подложки потоком ионов, сфокусированным на заданном участке с помощью системы электростатических линз.

Примечания

  1. Травление осуществляют распылением материала с заданных участков подложки ионным пучком. Воздействуя ионным пучком на поверхность подложки, можно получить рельефное изображение. В процессе ТФИП получают изображения с разрешением от 1 до 100 нм.
  2. ТФИП относят к видам ионно-лучевого фрезерования.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Травление индуктивно связанной плазмой

Травление индуктивно связанной плазмой; ТИСП (inductive coupled plasma; ICP)  — плазменное травление с применением источника индуктивно связанной плазмы, в котором происходит образование плазмы внутри разрядной камеры, горелки или иного реактора при приложении высокочастотного переменного магнитного поля.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013. Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Травление ионно-лучевое

Травление ионно-лучевое; ионно-лучевое фрезерование (ion beam etching; ion beam milling) — процесс управляемого удаления поверхностного слоя материала с подложки потоком ионов, полученным с помощью источника плазмы.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Травление изотропное

Травление изотропное (isotropic etching) — процесс управляемого удаления поверхностного слоя материала с подложки, происходящий с одинаковой скоростью по всем пространственным направлениям.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013. Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Абляция лазерная

Абляция лазерная (laser ablation) — процесс управляемого удаления поверхностного слоя материала с подложки лазерным импульсом.

Примечание. Лазерную абляцию применяют для формирования неоднородностей размерами в нано диапазоне на поверхности материала, покрывающего подложку.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]

Травление световым излучением

Травление световым излучением; фотохимическое травление (light-assisted etching; photochemical etching) — процесс управляемого удаления поверхностного слоя материала с подложки световым излучением.

Примечание. Методом травления световым излучением обрабатывают светочувствительные материалы в специальных условиях с применением химических веществ. Структура и форма получаемого изображения зависят от применяемого шаблона, через который облучают фоторезист, покрывающий подложку. Данный метод применяют, например, для получения требуемой структуры поверхности пористого кремния, обладающего люминесцентными свойствами.

[ГОСТ Р 56662-2015/ISO/TS 80004-8:2013 Нанотехнологии. Часть 8. Процессы нанотехнологического производства. Термины и определения]